◎ 本設(shè)備為單面精密拋光設(shè)備，采用先進的機械結(jié)構(gòu)和多種先進控制方法，拋光加工效率高，運行穩(wěn)定。

◎ 整機采用PLC+觸摸屏控制系統(tǒng)，設(shè)備參數(shù)設(shè)置和操作簡單方便，系統(tǒng)運行穩(wěn)定性高。

◎ 主電機采用變頻調(diào)速控制，實現(xiàn)主機軟啟動、軟停機降低設(shè)備運行沖擊，減少工件損傷。

◎ 工件拋光壓力采用氣缸加壓方式，通過電氣比例閥控制實現(xiàn)壓力的閉環(huán)控制，保證極高的施壓精度與穩(wěn)定性。

◎ 上壓盤采用主動驅(qū)動方式，在確保產(chǎn)品撤光速率的前提下保證各工位拋光加工的統(tǒng)一性。

◎ 拋光盤與上壓盤都設(shè)置了冷卻水冷卻功能，在保證拋光液發(fā)揮最大效率的同時減少拋光盤面的變形。